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真空氫氣爐
真空氫氣爐
來源： | 發布時間：2021-10-30 |
真空氫氣爐設計原理
真空氫氣爐主要用于金屬及非金屬材料的真空氫氣還原，硬質合金、陶瓷、粉末冶金材料的真空／氣氛高溫燒結處理，軟磁材料的真空氫氣退火以及真空釬焊、真空高溫回火等工藝。設備設計溫度在1600℃以下（由客戶提供）。
VHS系列單室真空氣淬爐采用前開門裝料型式，由真空爐體、爐膽、真空系統、氫氣還原系統、快速充氣系統（氮氣）、風冷系統、溫度和真空控制系統、加熱電源、水冷系統和爐外裝料車等部分組成。
優點：本設備(bei)糅合了國(guo)際前(qian)進(jin)技術，采用負壓(ya)脈沖充氫氣和恒壓(ya)流動充氫氣燒結的新方法，達到(dao)即(ji)節約氣源又使(shi)材料充分(fen)還原(yuan)提純的目的，同時(shi)又使(shi)設備(bei)具有突(tu)出(chu)的安全性能(neng)。
真空氫氣爐技術參數
最高爐溫：1600℃ 爐溫均勻性：<±5℃， 極限真空度：10-1／10-4Pa可選
壓(ya)升(sheng)率： 0.65Pa／h， 爐膽(dan)：石墨／鉬可選
